気相化学反応により微粒子を生成するプラズマ CVD 法を用いた反応器の一種で，この方法では数千～1万度の高温が得られる熱プラズマを利用する。熱プラズマの発生法には直流プラズマ法と高周波誘導プラズマ法（RF 法）とがあり，RF 法は直流プラズマ法と比較して広い範囲の気体流速で操作でき，電極がないので不純物の混入が防げること，反応物のプラズマ内滞留時間を調節しやすいこと，腐食性気体の使用が可能なことなどの長所をもつ。その反面，無電極放電であるため，熱プラズマが不安定である短所をもつ。そこで，点火用と反応用二つの高周波誘導コイルを用いることで，熱プラズマが不安定にならないように改良したのが二段型高周波プラズマ反応器で，工業的によく用いられている。

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